Toshiba inicia la construcción de la segunda fase de las instalaciones de fabricación de semiconductores n.° 5 en Yokkaichi
TOKIO, 24 de agosto del 2013.— Toshiba Corporation (TOKYO: 6502) realizó la ceremonia de puesta de la piedra fundamental en preparación para el inicio de la construcción de la Fase 2 de Fab 5, las instalaciones de fabricación de vanguardia de la compañía (fab) en sus instalaciones de producción de memoria de Yokkaichi Operations en la prefectura Mie.
Toshiba ampliará Fab 5 para asegurar el espacio de fabricación de memorias flash NAND fabricadas con tecnología de proceso de próxima generación y memorias en 3D. La construcción se completará en el verano del próximo año, y las decisiones sobre las inversiones en equipos y los niveles de producción reflejarán las tendencias del mercado.
Yokkaichi Operations tiene en la actualidad tres Fab de producción masiva de memoria flash NAND, que incluye la fase 1 de Fab 5. La construcción de Fab 5 fue planificada en dos fases, la primera de las cuales entró en operación en julio de 2011. Tras considerar con detenimiento el equilibrio entre el suministro y la demanda de productos y observar un impulso hacia la recuperación en la demanda creciente por teléfonos inteligentes, tablets, SSD para servidores corporativos, Toshiba ahora anticipa una expansión mayor hacia el mercado de mediano y largo plazo y reconoce que el tiempo es el adecuado para la expansión de Fab 5.
Completando el avance, Toshiba expandirá su negocio de memorias e impulsará la competitividad mediante el liderazgo en tecnología de procesos avanzada y el desarrollo de memorias de nueva generación que responden a las necesidades del mercado.
| Esquema de Fab 5 | ||
| Estructura del edificio: | 2 plantas de hormigón armado con marco de acero, cinco pisos | |
| Superficie del terreno: | aproximadamente 38.000 m2 | |
| Superficie total: | aproximadamente 187.000 m2 | |
| Inicio de la construcción: | Primera Fase: julio de 2010 | |
| Segunda Fase: agosto de 2013 | ||
| Finalización: | Primera Fase: mayo de 2011 | |
| Segunda Fase: verano 2014 (objetivo) | ||
| Inicio de la producción: | Primera Fase: julio de 2011 | |
| Segunda Fase: se determinará más adelante, destinada principalmente a la transición tecnológica de la capacidad de oblea vigente | ||
| Esquema de Yokkaichi Operations | ||
| Ubicación: | 800, Yamanoisshiki-cho, Yokkaichi, Mie Prefecture | |
| Establecida en: | enero de 1992 | |
| Gerente General: | Tomoharu Watanabe | |
| Empleados: | aproximadamente 5200 | |
| (a partir de finales de marzo de 2013, empleados regulares de Toshiba) | ||
| Superficie de la planta: | aproximadamente 436.800 m2 (incluida Fab 5) | |
| Superficie total: | aproximadamente 647.000 m2 (incluida Fab 5) | |
Acerca de Toshiba
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Toshiba fue fundada en 1875 y actualmente opera una red global de más de 590 compañías consolidadas, con 206.000 empleados en todo el mundo y ventas anuales que superan los 5800 billones de yenes (61.000 millones de USD). Visite el sitio web de Toshiba en www.toshiba.co.jp/index.htm