Molecular Imprints enviará tres de sus sistemas de impresión de próxima generación este trimestre. Se espera que dos de estos sistemas se entreguen a un IDM de semiconductores destacado.
AUSTIN, Texas, 24 de abril de 2013.— Molecular Imprints, Inc. (MII), líder tecnológico en litografía avanzada de semiconductores y de mercado y tecnología para sistemas y soluciones de nanopatrón, anunció el envío del primero de los tres módulos de impresión avanzados programados para este trimestre que se integrarán en los sistemas de elevación de equipamiento de socios MII. Estos módulos incluyen la última tecnología propia MII Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™), que proporcionará el rendimiento necesario para fabricación de elevado volumen para dispositivos de memoria avanzados semiconductores en dimensiones de sub-20 nanómetros.
«Nuestros últimos envíos de módulos de impresión incorporan el control de ampliación mejorado y la tecnología de exposición, junto a un mejor filtrado de resistencia integrado, controles de máquina de precisión en tiempo real y actualización del sistema resist jetting, que mejora de forma importante la lucha contra los defectos, rendimiento, precisión de solapamiento y costos generales de propiedad», indicó Mark Melliar Smith, consejero delegado de Molecular Imprints.
«Todas estas mejoras se han conseguido al tiempo que se sigue desplegando una plataforma con un menor costo de sistema y una huella más pequeña. Deseo felicitar a nuestros equipos de desarrollo e ingeniería por otro trabajo excepcional en el diseño de productos y desarrollo, reconociendo el apoyo y colaboración recibidos de nuestros socios de equipamiento. Estamos impacientes por ver estos sistemas en acción en nuestras instalaciones de producción de clientes semiconductores a finales de este año».
Acerca de Molecular Imprints, Inc.
Molecular Imprints, Inc. (MII) es líder tecnológico para sistemas y soluciones de nanopatrón de alta resolución y bajo costo de propiedad en las industrias de discos duros (HDD). MII ha mejorado su innovadora tecnología Jet and Flash™ Imprint Lithography (J-FIL™) para convertirse en líder mundial de mercado y líder de tecnología en soluciones de patrón de alto volumen para instrumentos de almacenamiento y memoria, al tiempo que permite los mercados emergentes en pantallas, energía limpia, biotecnología y otras industrias. MII permite los patrones a nanoescala por medio del despliegue de una solución completa de nanopatrón que cuenta con un bajo costo, compatible y ampliable a los niveles de resolución de sub-10 nanómetros. Si desea más información síganos en Twitter o visite www.molecularimprints.com